最新消息11月6日消息 据澎湃新闻今日报道，在第三届中国国际进口博览会上，荷兰光刻机巨头阿斯麦（ASML）全球副总裁、中国区总裁沈波表示，该公司对向中国出口集成电路光刻机持开放态度，对全球客户均一视同仁，在法律法规框架下，都将全力支持。

最新消息昨日报道，ASML 在第三届中国国际进口博览会上展示了先进的 DUV 光刻机。据了解，该产品可生产 7nm 及以上制程芯片。

DUV :深紫外线（Deep Ultraviolet Lithography），EUV :极深紫外线（Extreme Ultraviolet Lithography）。

从制程范围来看，DUV 基本上只能做到 25nm，Intel 凭借自对准二/四重曝光的模式做到了 10nm，但是却无法达到 10nm 以下。只有 EUV 能满足 10nm 以下的晶圆制造，并且还可以向 5nm、3nm 继续延伸。

此外，ASML 在本次展会上也带来了其整体光刻解决方案，包括先进控制能力的光刻机台计算光刻和测量通过建模、仿真、分析等技术，让边缘定位精度不断提高。

沈波表示，ASML 最早一台机器是在 1988 年进入中国的。目前中国的 700 多台装机涵盖了 ASML 公司绝大部分类型产品。且光刻机并非存在 “新旧更迭”现象，不同的集成电路的需求受应用场景影响而导致制程量级并不相同。目前 80、90 年代的产品现在市场上仍然会有很多需求，且 7 纳米、5 纳米、3 纳米芯片的数量在整个芯片供应链中大概只占 10% 多一点。但对于现在的物联网、汽车电子、轨道交通、超高压输电等 “新基建”来说，仍是需要大量 “成熟制程”的芯片。

沈波还表示，ASML 在中国也建立了自己的培训中心，培养光刻行业人才 , 在深圳和北京成了两家技术开发中心，做计算光刻、量测等开发。

对于网友最关心的 EUV 光刻机出口许可方面，他表示:ASML 必须要在遵守法律法规的前提下进行光刻机出口。但我们对向中国出口光刻机是保持很开放态度的，我们对全球客户都一视同仁，只要是我们能够提供的技术和设备，我们都会全力支持。实际上，2020 年第二、第三季度，公司发往中国大陆地区的光刻机台数超过了全球总数的 20%。