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 总算领会盛美上海声明:公司与 Semes 前雇员涉嫌盗取技术案件完全无关 - 最新消息 - 三农网
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总算领会盛美上海声明:公司与 Semes 前雇员涉嫌盗取技术案件完全无关 - 最新消息
发布日期:2023-05-16 03:36:22  浏览次数:9

集微网消息 6 月 1 日,盛美上海在投资者互动平台回应投资者关于“近期有国内媒体引源韩媒 Korea Herald 报道,关于韩国检方已介入三星子公司同时也是其供应商的 Semes 前雇员涉嫌参与盗取技术的案件。请问该事件是否与盛美有关联?”的问询时表示,我们在这里郑重声明:盛美上海及控股子公司与该事件完全无关。

盛美上海还表示,公司经过几十年的潜心自主差异化创新研发,对已经销售于全球的半导体设备具有完整的全球自主知识产权。截至 2021 年 12 月 31 日,公司及控股子公司拥有已获授予专利权的主要专利 347 项,其中境内授权专利 156 项,境外授权专利 191 项,其中发明专利共计 342 项。盛美在业界首创的 SAPS 兆声波单片清洗技术荣获 2020 年上海市科学进步一等奖。

盛美上海强调,公司一贯坚持,崇尚创新并尊重知识产权。公司坚持差异化国际竞争和原始创新的发展战略,目标是让盛美自主研发的差异化半导体设备服务全中国客户,也服务全球客户。

值得一提的是,盛美上海凭借其深耕集成电路设备产业多年而积累的集成应用经验,掌握了成熟的核心关键工艺技术、生产制造能力与原始创新的研发能力,拥有成熟的供应链管理和制造体系,同时契合集成电路产业链中下游应用市场所需。公司凭借先进的技术和丰富的产品线,已发展成为中国大陆少数具有一定国际竞争力的半导体设备供应商,产品得到众多国内外主流半导体厂商的认可,并取得良好的市场口碑。

据了解,盛美上海经过多年持续的研发投入和技术积累,先后开发了单片清洗、槽式清洗以及单片槽式组合清洗等清洗设备,用于芯片制造的前道铜互连电镀设备、后道先进封装电镀设备,以及用于先进封装的湿法刻蚀设备、涂胶设备、显影设备、去胶设备、无应力抛光设备及立式炉管系列设备等。

盛美上海此前表示,公司通过持续的研发投入和长期的技术、工艺积累,在新产品开发、生产工艺改进等方面形成了一系列科技成果,对公司持续提升产品品质、丰富产品布局起到了关键性的作用。公司取得的科技成果是公司竞争力的重要组成部分,亦是公司产品销售规模得以持续增长的基础。

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